专利申请的5大雷区，千万不要踩

专利申请的5大雷区，你知道吗？快来看看吧！避免踩坑！

雷区一：产品上市后再申请专利很多老板和发明人认为产品在大规模生产后申请专利，这是错误的。一旦产品上市，或是先发表了产品的相关文章或成果鉴定，这时专利就失去了新颖性，没有新颖性，专利就很难申请下来。所以一定要在产品上市前申请专利。

雷区二：自主研发成果不申请专利技术大神们一定要注意，自主研发的技术创新成果一定要趁早申请专利，避免被他人盗用窃取智慧成果。没有专利，不仅维权难还可能被人倒打一耙。只要是创新型成果都需要申请专利的。

雷区三：一项技术成果只能申请一项专利提醒各位发明人，其实一项技术成果可以申请多项专利，如果满足条件，一项发明的不同技术方案可申请发明专利、实用新型和外观专利不同的专利类型保护，也可以同时申请多项的发明或者实用新型专利。

雷区四：专利申请前不做检索有些发明人提交的专利申请文件没有做查新检索，对技术方案的新颖性如何不确定，不知道其技术方案有没有公开过或公开使用过。一定要进行专业的检索，不然专利申请之路会走的非常曲折。

雷区五：申请大量专利却无人管理一些企业老板申请了很多项的专利，但是不做专利的动态监控，导致专利难以发挥市场价值，甚至专利年费忘记缴纳，导致专利失效不受保护，白白浪费以前申请专利所用的时间、金钱和精力。

希望大家申请专利少踩坑，不走弯路。